Vacuum roll upang gumulong ng dobleng panig na sputtering system) (may kakayahang dobleng panig na mga materyales sa kalupkop

1. Paglikha ng isang kinokontrol na kapaligiran ng vacuum
Ang unang hakbang sa proseso ng magnetron sputtering ay upang lumikha ng isang kinokontrol na kapaligiran ng vacuum. Ang silid ng vacuum, na kung saan ay integral sa proseso ng patong, ay naglalagay ng substrate at ang target na materyal. Kapag naghahanda ng silid, inilikas ito gamit ang isang sopistikadong sistema ng tambutso upang makamit ang isang mataas na antas ng vacuum. Ang vacuum ay kinakailangan upang maalis ang mga particle ng hangin, alikabok, o anumang anyo ng kontaminasyon na maaaring makagambala sa kalidad ng manipis na pag -aalis ng pelikula.
Ang paglikha ng vacuum na ito ay nagbibigay -daan din sa Vacuum roll upang gumulong ng dobleng panig na sputtering system Upang gumana nang may kaunting pagtutol, mas mahusay ang proseso ng pag -aalis. Pinipigilan nito ang oksihenasyon ng target na materyal at tinitiyak na ang mga sputtered atoms lamang mula sa target na materyal ay idineposito sa substrate. Sa kaso ng Hongtian Technology Co, Ltd, ang kapaligiran ng vacuum ay karaniwang saklaw mula sa 0.5 hanggang 1.0 Pa, isang saklaw ng presyon na pinakamainam para sa sputtering metal layer tulad ng tanso o aluminyo.
Kapag ang silid ay nasa ilalim ng nais na vacuum, ang substrate ay maingat na nakahanay upang matiyak ang pantay na patong. Ang mga substrate tulad ng PET (polyethylene terephthalate) o PP (polypropylene), karaniwang sa mga kapal na mula sa 3 μm hanggang 12 μm, ay patuloy na inilipat sa panahon ng proseso ng patong. Tinitiyak ng vacuum na ang patong ay patuloy na inilalapat sa buong lugar ng ibabaw ng substrate. Ang vacuum roll upang gumulong ng dobleng panig na sputtering system ay idinisenyo para sa mga high-speed na operasyon, na may bilis ng linya na halos 2 metro bawat minuto. Ginagawa nitong mainam para sa malakihang produksiyon, kasama ang sistema ng Hongtian Technology Co, Ltd na may kakayahang patong ng humigit-kumulang na 95,000 square meters bawat buwan.
Sa pamamagitan ng pagkontrol sa vacuum, ang sistema ay nagpapaliit ng anumang potensyal na kontaminasyon at nagbibigay ng isang malinis, matatag na kapaligiran para sa proseso ng sputtering, tinitiyak na ang pangwakas na pinahiran na pelikula ay nakakatugon sa kinakailangang mga pagtutukoy para sa kapal, pagkakapareho, at pagdirikit.

2. Proseso ng Pag -sputter ng Magnetron: Pag -aalis ng Materyal
Kapag naka -set up ang kapaligiran ng vacuum, nagsisimula ang proseso ng sputtering. Gumagamit ang Hongtian Technology Co, Ltd ng isang rotary magnetron sputtering cathode na may 32 set ng mga magnetrons, na estratehikong inilalagay upang matiyak ang pantay na materyal na pag -aalis sa magkabilang panig ng substrate. Ang proseso ng sputtering ay nagsisimula kapag ang isang inert gas, karaniwang argon, ay ipinakilala sa silid ng vacuum. Ang isang mataas na boltahe ay inilalapat sa target na materyal, na nagiging sanhi ng mga ion ng gas na maging ionized.
Ang mga ionized gas molekula pagkatapos ay bumangga sa target na materyal, na nag -dislodging ng mga atoms mula sa target na ibabaw. Ang mga atoms na ito ay pagkatapos ay ejected at paglalakbay sa pamamagitan ng vacuum sa substrate, kung saan sila ay pumipigil at bumubuo ng isang manipis, pantay na patong. Ang proseso ay lubos na kinokontrol, kasama ang Hongtian Technology Co, Ltd na tinitiyak na ang kapal ng patong ay pinananatili sa loob ng isang tumpak na saklaw ng pagpapaubaya ng ± 5%, na nagpapahintulot sa pare -pareho na kalidad sa buong produksyon.
Ang isa sa mga pangunahing bentahe ng proseso ng pag -sputter ng magnetron ay ang kakayahang mag -coat ng magkabilang panig ng substrate nang sabay -sabay. Ang dual-sided sputtering na ito ay makabuluhang nagdaragdag ng kahusayan at binabawasan ang oras ng produksyon, na kung saan ay isang pangunahing pakinabang para sa mga industriya na nangangailangan ng malaking dami ng mga pinahiran na materyales. Ang target na materyal na ginamit sa sputtering ay maaaring mag -iba depende sa application; Halimbawa, ang tanso (Cu) ay karaniwang ginagamit bilang isang materyal na elektrod, habang ang iba pang mga materyales ay maaaring magamit para sa mga proteksiyon na layer. Tinitiyak ng Hongtian Technology Co, Ltd na ang mga target na materyales ay pinainit nang sapat, na nagbibigay ng pinakamainam na mga kondisyon para sa sputtering.
Bilang karagdagan sa mga karaniwang coatings ng metal, tinatanggap din ng system ang pag-aalis ng mga kumplikadong pelikula ng multi-layer, tulad ng mga layer ng pagdirikit (SP), mga layer ng elektrod (CU), at mga layer ng proteksiyon (SP). Ang layered na diskarte na ito ay nagpapabuti sa pagganap ng patong, pagpapabuti ng tibay nito, elektrikal na kondaktibiti, at paglaban sa kaagnasan. Ang rotary magnetron sputtering cathode ay nagsisiguro na ang pag-aalis ay pantay at pare-pareho sa magkabilang panig ng substrate, na nagpapahintulot sa Hongtian Technology Co, Ltd na gumawa ng mga de-kalidad na coated na materyales na nakakatugon sa mahigpit na pamantayan ng iba't ibang mga industriya.

3. Pag -optimize ng kalidad ng patong at pagganap
Ang pagtiyak ng kalidad at pagganap ng patong ay isang kritikal na bahagi ng proseso ng sputtering. Ang system ay nilagyan ng mga tampok na idinisenyo upang mapahusay ang pagdirikit at tibay ng mga manipis na pelikula na inilalapat sa mga substrate. Matapos ang materyal ay na -sputtered sa substrate, ang Hongtian Technology Co, Ltd ay gumagamit ng isang pagpainit o paggamot ng pambobomba ng ion upang mapagbuti ang pagdirikit sa pagitan ng patong at ang substrate. Ang hakbang na ito ay mahalaga para matiyak na ang patong ay nananatiling buo sa kasunod na paghawak o aplikasyon, lalo na sa hinihingi na mga kapaligiran.
Ang komposisyon ng patong ay karaniwang binubuo ng isang layer ng pagdirikit (SP), isang conductive electrode layer (CU), at isang proteksiyon na layer (SP). Ang kumbinasyon ng mga layer na ito ay nagbibigay ng maraming mga benepisyo, kabilang ang pinahusay na lakas ng mekanikal, elektrikal na kondaktibiti, at paglaban sa pagsusuot at kaagnasan. Tinitiyak ng proteksiyon na layer na ang patong ay lumalaban sa mga kadahilanan sa kapaligiran tulad ng kahalumigmigan, alikabok, at pagbabagu -bago ng temperatura, na partikular na mahalaga sa mga industriya tulad ng electronics at automotiko.
Ang Hongtian Technology Co, Ltd ay naglalagay ng isang mataas na diin sa pagkontrol sa pagkakapareho at kapal ng patong. Sa pamamagitan ng isang pagpapahintulot sa kapal ng lamad ng membrane ng ± 5%, tinitiyak ng system na ang bawat substrate na naproseso sa ilalim ng vacuum roll upang gumulong ng dobleng panig na sputtering system ay tumatanggap ng isang pare-pareho na patong. Ang katumpakan na ito ay mahalaga para sa mga aplikasyon kung saan ang pagkakapareho at pagiging maaasahan ay mahalaga, tulad ng sa paggawa ng mga semiconductors, solar panel, o pandekorasyon na pagtatapos sa mga bahagi ng automotiko.
Ang paglaban ng pangwakas na patong ay karaniwang sa paligid ng 25 MΩ □, isang halaga na nagsisiguro ng mababang paglaban sa koryente at mahusay na kondaktibiti, na mahalaga para sa mga aplikasyon sa mga electronics at mga sistema ng imbakan ng enerhiya. Ang mataas na antas ng kontrol sa proseso ng patong at ang kakayahang makagawa ng malaking dami ng mataas na kalidad na materyal na ginagawang teknolohiya ng Hongtian Technology Co, Ltd.